RTP (Rubidium Titanyle Phosphate – RbTiOPO4) là vật liệu hiện được sử dụng rộng rãi cho các ứng dụng Quang điện bất cứ khi nào cần điện áp chuyển mạch thấp.
RTP (Rubidium Titanyle Phosphate – RbTiOPO4) là một dạng đồng hình của tinh thể KTP được sử dụng trong các ứng dụng quang điện và phi tuyến.Nó có ưu điểm là ngưỡng sát thương cao hơn (khoảng 1,8 lần KTP), điện trở suất cao, tốc độ lặp lại cao, không hút ẩm và không có hiệu ứng áp điện.Nó có độ trong suốt quang học tốt từ khoảng 400nm đến hơn 4µm và rất quan trọng đối với hoạt động bằng laser trong khoang, mang lại khả năng chống hư hỏng quang học cao với khả năng xử lý công suất ~1GW/cm2 đối với các xung 1ns ở 1064nm.Phạm vi truyền của nó là 350nm đến 4500nm.
Ưu điểm của RTP:
Nó là một tinh thể tuyệt vời cho các ứng dụng Quang điện với tốc độ lặp lại cao
Hệ số quang và điện quang phi tuyến lớn
Điện áp nửa sóng thấp
Không có tiếng chuông áp điện
ngưỡng sát thương cao
Tỷ lệ tuyệt chủng cao
Không hút ẩm
Ứng dụng RTP:
Vật liệu RTP được công nhận rộng rãi nhờ các tính năng của nó,
Q-switch (Laser Ranging, Laser Radar, Laser y tế, Laser công nghiệp)
Điều chế công suất/pha laser
Bộ chọn xung
Truyền ở 1064nm | >98,5% |
Khẩu độ có sẵn | 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15mm |
Điện áp nửa sóng ở 1064nm | 1000V (3x3x10+10) |
Kích thước tế bào Pockels | Dia.20/25,4 x 35mm (khẩu độ 3×3, khẩu độ 4×4, khẩu độ 5×5) |
Độ tương phản | >23dB |
Góc chấp nhận | >1° |
Ngưỡng sát thương | >600MW/cm2 ở 1064nm (t = 10ns) |
Tính ổn định trong phạm vi nhiệt độ rộng | (-50oC – +70oC) |